真空狀態下的分散和研磨

真空分散工藝多用於(yu) 多氣泡物料和易揮發性溶劑較多的工藝中，通過抽真空使物料在真空中的容器內(nei) 分散，減少氣泡和溶劑的揮發，也可以在高粘度物料的分散過程中減少分散過程中氣泡的產(chan) 生。

VMA在滿足真空分散需要上采用了兩(liang) 種不同的設計工藝。

CDS真空分散係統

CDS真空分散係統屬於(yu) 額外的附加模塊，可以附加到現有的分散機上，適用於(yu) 小量的真空分散使用。

CDS真空分散係統能夠在真空下封閉係統中的單壁容器中進行分散過程。單壁容器能夠放置在容器托座中並進行固定。如果分散過程需要冷卻，也可以使用雙壁容器托座。在加入液體(ti) 和粉末後，可以將玻璃蓋降低到容器托座的真空軸導管上。現在可以開始進行分散，並令產(chan) 品做急速自由翻滾運動。如果需要真空狀態，可以使用真空泵。即使在真空條件下做分散，分散盤高度也可以很容易地升高或降低。可以通過大玻璃罩清楚地觀察到分散全過程。所有的CDS係統都可使用單壁或雙壁(用於(yu) 溫度控製)。

全新設計的創新型CDS真空係統，首次允許使用集成的刮刀係統來分散高粘度產(chan) 品。CDS係統適用許多DISPERMAT®分散裝置，還配備了一個(ge) 超亮的LED室內(nei) 照明以及紅外溫度測量

1單壁容器固定在雙壁容器內(nei) , 粉末狀成分攪拌到液體(ti) 成分中。

2混合液體(ti) 和粉末狀成分後，蓋上玻璃蓋，並在真空狀態下進行分散。

3.隨著磨料被正確投入到滾軸中, 產(chan) 生湍流自由運動 (圓環效應)。實驗室用分散機 DISPERMAT®取得的結果可以很好地轉化到生產(chan) 工作中。

整機真空分散

除了模塊化小量分散的CDS分散應用係統，VMA分散機還提供了整機的分散應用主要型號為(wei) LH和VL兩(liang) 個(ge) 係列。

整機分散應用在使用時不需要附加額外的分散模塊，適用於(yu) 大中量的物料分散使用，分散過程全程可控。更適合於(yu) 研發使用和試生產(chan) 使用。

真空分散機

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