進口防爆分散機

模塊化分散研磨係統：

德國創新製造的模塊化分散研磨係統，可以讓防爆分散機配套不同的分散研磨係統，從(cong) 而轉換成不同功能的分散設備，如：APS研磨係統，TML籃式砂磨係統，CDS真空分散係統，SR轉子乳化係統以及高粘度產(chan) 品用的ASC刮刀係統。

APS研磨係統(選項 : 真空、增壓、納米、 陶瓷等係列)

當APS研磨係統和合適的研磨盤組合時, DISPERMAT 防爆分散機即可轉變成為(wei) 批量密封式的防爆分散機。

APS係統	基料量	杯容積	研磨珠量
APS 30	12 毫升	30毫升	12毫升
APS 50	20 毫升	50 毫升	20 毫升
APS 125	50 毫升	125毫升	50 毫升
APS 250	60 ‒ 110 毫升	250毫升	100 毫升
APS 500	110 ‒ 210 毫升	500毫升	200 毫升
APS 1000	220 ‒ 430 毫升	1升	400 毫升

TML籃式研磨係統（選項 : 納米, 陶瓷和真空等係列）

加裝上TML研磨係統，即可使DISPERMAT 防爆分散機改變為(wei) 封閉式的籃式研磨係統。籃式砂磨機是高效率的研磨係統。將已填充了研磨珠的研磨籃下降到基料中去研磨，籃內(nei) 快速轉動的研磨盤攪動著籃內(nei) 的珠子進行研磨工藝，分散盤、籃子和專(zhuan) 利的內(nei) 置葉片泵輪產(chan) 生極為(wei) 有效的基料循環, 有助在短時間內(nei) 得到盡可能佳的研磨效果。

TML係統	基料量	容杯量	研磨籃
TML 05	250毫升	500毫升	43毫升
TML 1	500 ‒ 3升	1、2、3、5升	65 毫升

CDS真空係統（選項 : 單壁或雙壁杯座）

CDS真空係統可選單壁杯在真空密封條件下進行分散。先將單壁杯放入單壁式或雙壁夾套式容杯的杯座內(nei) 並鎖緊;隨後加入液體(ti) 和粉體(ti) 等材料;然後降下玻璃杯蓋使之密封;即可開始在真空條件下分散。

<table" width="100%" cellspacing="0" cellpadding="0">CDS係統材料量容杯容積容杯尺寸CDS 250200 毫升250 毫升65 x 85 mmCDS 500400 毫升500 毫升80 x 100 mmCDS 1000700 毫升1 升100 x 130 mmCDS 20001.5 升2 升120 x 180 mmCDS 30002.2 升3 升140 x 200 mm

SR-03/04轉子-定子 (乳化)係統

SR轉子 --定子(乳化)係統適用於(yu) 低粘度材料的分散。無軸承的轉子是理想的流動中斷裝置, 可有效防止材料轉動, 更能在極小的空間內(nei) 提供高效的機械能。

ASC高粘度材料用的刮刀

為(wei) 確保高粘度和不流動材料達到盡可能佳的分散、混合效果，選用ASC刮刀係統是重要和必需的, ACS刮刀係統並非像一般的刮刀臂在杯內(nei) 作圓形轉動, 而是刮刀臂不動，但容杯被鉗緊地轉動，操作方便，隻需把ASC刮刀係統放入支架內(nei) , 用自動置中杯鉗裝置固定，並降之容杯內(nei) 後進行理想的分散、混合工藝。

防爆分散機型號及技術參數

可選配件：

德國VMA分散機提供各種不同類型，不同大小的分散盤和樣品罐。用戶可以根據自身具體(ti) 情況選擇合適的分散工具，來進行更加精細高效的分散操作。